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लंबी प्लेटों और गहरे छिद्रों के लिए कौन से निरीक्षण विधियाँ उपयुक्त हैं?

सामग्री तालिका
लंबी प्लेटों और गहरे छिद्रों के लिए कौन से निरीक्षण विधियाँ उपयुक्त हैं?
विशेषताओं को वर्गीकृत करें
समर्थन और डेटम बताएं
गहरे छिद्रों के लिए विधियाँ चुनें
प्लेट रूप को अलग से मापें
आवश्यकता होने पर कार्यात्मक साक्ष्य जोड़ें
विधि या सेटअप परिवर्तनों पर प्रतिक्रिया करें
आरएफक्यू में निरीक्षण निर्दिष्ट करें
खरीदार कार्रवाई

लंबी प्लेटों और गहरे छिद्रों के लिए कौन से निरीक्षण विधियाँ उपयुक्त हैं?

लंबी प्लेटों और गहरे छिद्रों के लिए निरीक्षण विधियाँ विशेषता, पहुंच, समर्थन स्थिति, डेटम फ्रेम, तापमान और आवश्यक साक्ष्य से मेल खानी चाहिए। कोई भी एक उपकरण छिद्र व्यास, पैटर्न स्थिति, समतलता, अक्ष और कार्य को एक साथ सिद्ध नहीं कर सकता। खरीदार को परिभाषित करना चाहिए कि कौन से क्षेत्र मापे जाते हैं, कौन से नमूने लिए जाते हैं, और कौन सा वैकल्पिक तरीका दुर्गम गहराई को कवर करता है। परिणाम वास्तविक प्लेट, सेटअप और वितरित स्थिति से जुड़े रहने चाहिए।

विशेषताओं को वर्गीकृत करें

छिद्र व्यास, गहराई, स्थिति, लंबवतता, काउंटरबोर, समतलता, मोड़, किनारे की दूरी, सतह की स्थिति और कार्यात्मक फिट को अलग करें। व्यास को परिभाषित गहराई और कोणों पर जांचा जा सकता है; स्थिति के लिए एक डेटम फ्रेम की आवश्यकता होती है; समतलता के लिए समर्थन और संरेखण की आवश्यकता होती है; फिट के लिए निर्दिष्ट हार्डवेयर और स्थिति की आवश्यकता होती है। एक पिन या प्लग एक शर्त के तहत निकासी का संकेत दे सकता है लेकिन पैटर्न या प्लेट रूप को सिद्ध नहीं कर सकता।

युग्मित दृश्य एक लंबी सपाट प्लेट दिखाते हैं जिसमें एक अंतिम छिद्र और छोटे छिद्रों का एक समूह होता है। वे केवल दृश्य ज्यामिति का समर्थन करते हैं और आयाम, सामग्री, सहनशीलता या भार को प्रकट नहीं करते हैं। विधियों का चयन करने के लिए ड्राइंग, मॉडल और निरीक्षण योजना का उपयोग करें।

समर्थन और डेटम बताएं

रिकॉर्ड करें कि प्लेट मुक्त है, प्रतिबंधित है, परिभाषित पैड पर समर्थित है, या फ्रेम से इकट्ठी है। प्राथमिक, द्वितीयक और तृतीयक डेटम, संपर्क क्रम, क्लैंप दिशा और अभिविन्यास का नाम बताएं। एक लंबी प्लेट झुक सकती है या मुड़ सकती है, इसलिए समर्थन स्थिति के बिना माप की व्याख्या करना कठिन है। यदि भाग को पलट दिया जाता है, तो साक्षी सुविधाओं के साथ स्थानांतरण जांच करें।

संपर्क सतहों को साफ करें और चिप्स, गड़गड़ाहट, शीतलक और कोटिंग को नियंत्रित करें। भाग और कमरे का तापमान और स्थिरीकरण समय बताएं। यदि वितरित स्थिति मापी गई स्थिति से भिन्न है, तो पुन: जांच या सहसंबंध परिभाषित करें। विभिन्न समर्थन या तापमान स्थितियों से रीडिंग का औसत न लें।

गहरे छिद्रों के लिए विधियाँ चुनें

बोर गेज, प्लग, एयर गेज, प्रोबिंग रूटीन, या सीएमएम विधि का उपयोग केवल उसकी पहुंच और अंशांकन सीमा के भीतर करें। माप गहराई, कोणीय स्थिति, संपर्क बल, जांच योग्यता, इकाइयाँ और तापमान बताएं। मुंह पर गेज रीडिंग तल को सिद्ध नहीं करती है। एक लंबी जांच विक्षेपित हो सकती है या एक कंधे को याद कर सकती है। अमापे क्षेत्रों और अनुमोदित विकल्पों की पहचान करें।

काउंटरबोर और स्टेप्ड छिद्रों के लिए, प्रत्येक व्यास और गहराई को अलग से मापें और यदि कार्यात्मक हो तो उनके साझा अक्ष को परिभाषित करें। एक छिद्र समूह के लिए, मूल, पिच, कोणीय अभिविन्यास, किनारे की दूरी और डेटम से संबंध रिकॉर्ड करें। जब निर्णय प्रदर्शित मूल्य से अधिक पर निर्भर करता है तो कच्चे निर्देशांक या ट्रेस बनाए रखें।

प्लेट रूप को अलग से मापें

समतलता, मोड़ और स्थानीय रूप का मूल्यांकन एक ऐसी विधि और समर्थन से करें जो कार्य का प्रतिनिधित्व करता है। एक सीएमएम संरेखण एक परिभाषित फ्रेम की रिपोर्ट कर सकता है; एक सीधा किनारा या संकेतक अपनी विधि के तहत सतह की जांच कर सकता है। कोई भी स्वचालित रूप से छिद्र स्थिति साबित नहीं करता है। फ्रेम पर बोल्ट की गई प्लेट के लिए, परिभाषित करें कि क्या फ्रेम स्वीकृति की स्थिति का हिस्सा है और हार्डवेयर, टॉर्क और समर्थन रिकॉर्ड करें।

यदि प्लेट अनक्लैंपिंग के बाद शिथिल होती है, तो मुक्त और प्रतिबंधित परिणामों की तुलना अलग साक्ष्य के रूप में करें। रिकॉर्ड करें कि परिवर्तन कब होता है और कौन सी विशेषताएं चलती हैं। प्लेट को स्थिर न कहें क्योंकि एक सतह समान दिखती है। पहले और बाद के मापों को इकाई पहचान से जोड़ते रहें।

आवश्यकता होने पर कार्यात्मक साक्ष्य जोड़ें

जब छिद्र किसी फ्रेम, काज, गाइड या फास्टनर पैटर्न को स्थित करते हैं, तो कार्यात्मक जांच के लिए निर्दिष्ट मेटिंग हार्डवेयर या नियंत्रित फिक्स्चर का उपयोग करें। भार, तापमान, स्नेहन, सम्मिलन विधि और स्वीकृति बताएं। एक कार्यात्मक जांच अपनी शर्तों के तहत व्यवहार प्रदर्शित कर सकती है लेकिन अमापी ज्यामिति को प्रतिस्थापित नहीं कर सकती। यदि फिट पास होता है जबकि स्थितिगत परिणाम विफल होता है, तो अनुकूल परिणाम चुनने के बजाय ड्राइंग और स्वीकृति प्राधिकरण का पालन करें।

कार्यात्मक जांच के दौरान सतह, गड़गड़ाहट और सफाई की स्थिति को नियंत्रित करें। एक चिप या कोटिंग फिल्म बैठने को बदल सकती है। हार्डवेयर पहचान, पहनने और संशोधन रिकॉर्ड करें ताकि परिणाम पुनरुत्पादक हो।

विधि या सेटअप परिवर्तनों पर प्रतिक्रिया करें

फिक्स्चर, समर्थन, लोकेटर, मशीन, जांच, गेज, प्रोग्राम, सामग्री, शीतलक या अभिविन्यास परिवर्तन के बाद संवेदनशील जांच दोहराएं। प्रभावी तिथि, इकाई सीमा, विधि, परिणाम और स्वामी रिकॉर्ड करें। एक अंशांकन प्रमाणपत्र संदर्भ के लिए उपकरण संबंध दिखाता है; यह लंबी प्लेट पर नए समर्थन को मान्य नहीं करता है।

जब एक दुर्गम क्षेत्र, लापता ट्रेस, सीमा से बाहर पैटर्न या अज्ञात स्थिति निर्णय को रोकती है, तो लॉट को रोकें। स्रोत डेटा का अनुरोध करें, निरीक्षण का विस्तार करें, अनुमोदित विकल्प का उपयोग करें, या विचलन प्राप्त करें। मूल परिणामों और दोहराने के कारणों को संरक्षित करें।

आरएफक्यू में निरीक्षण निर्दिष्ट करें

विशेषताएं, डेटम, समर्थन, स्थिति, गहराई, अनुभाग, पहुंच, उपकरण, अंशांकन, तापमान, नमूनाकरण, कच्चा डेटा प्रारूप, कार्यात्मक हार्डवेयर, रिकॉर्ड और प्रतिक्रिया प्राधिकरण प्रदान करें। आपूर्तिकर्ताओं से दुर्गम क्षेत्रों की पहचान करने और उनके वैकल्पिक तरीके को कैसे सहसंबद्ध किया जाता है, यह पूछें। परिवर्तन अधिसूचना और प्रभावित सीमा की ट्रेसबिलिटी की आवश्यकता है।

एक कोटेशन जो स्थानों, स्थितियों या विधियों के बिना "पूर्ण निरीक्षण" का वादा करता है, परिभाषित योजना के साथ तुलनीय नहीं है। इकाई पहचान, सेटअप, संरेखण और सीमाएं दिखाने वाला एक संपादित रिपोर्ट प्रारूप का अनुरोध करें।

खरीदार कार्रवाई

योजना को मंजूरी दें जब प्रत्येक सीटीक्यू के पास एक सुलभ विधि, डेटम, समर्थन, स्थिति और साक्ष्य सीमा हो। जब एक मुंह रीडिंग गहरे छिद्र के लिए खड़ी हो, एक मुक्त परिणाम प्रतिबंधित असेंबली के लिए खड़ा हो, या एक कार्यात्मक फिट लापता पैटर्न डेटा छिपाता है, तब रोकें। लंबी प्लेट निरीक्षण तब बचाव योग्य है जब विधि और स्थिति स्पष्ट हों।

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